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清洗机/去胶机/刻蚀机-TDW-C-L1200/800系列

产品特色
·适用于4、6、8、12英寸硅片、化合物、玻璃、蓝宝石等基片WET处理
·毛刷Brush清洗、兆声波、高压水,药液、EUV等清洗功能
·去胶设备(lift off):高压药液去胶,浸泡去胶, 超声(兆声波)波清洗
·刻蚀设备采用:多液体分离回收结构、刻蚀液精确温控单元
·模块化的单元便于维护
·图形化的人机交互界面
·图形化的人机交互界面