江阴市希瑞电子有限公司

联系电话:159-9536-5210

全自动TRACK单元

  • C型涂胶显影机
  • F型涂胶显影机
  • 清洗机/去胶机/刻蚀机
  • TDC1200/800系列
    ◆适用量产、工艺测试
    ◆晶圆加工规格4英寸、6英寸、8英寸、12英寸
    ◆机台配置2Cot、2Dev、ICot&IDev机台
    ◆适用前道工艺、晶圆级封装、MEMS和LED等
    ◆模块化设计,客户可根据需求定制单元模块
    ◆图形化的人机交互界面
    ◆占地小、操作简单维护方便
    ◆高产能80WPH,相比传统机型产能提升10%以上(8英寸标准工艺)
  • TDF1200/800系列
    ◆高产能机型、最高配置8spin、标准配置3Cot&5Dev
    ◆适用于规模量产,可以与光刻机inline
    ◆晶圆加工规格8英寸或12英寸产品
    ◆匹配多种光刻工艺KrF、i-line
    ◆设备包括EFEM、Cot&Dev、Oven、Interface
    ◆模块化、灵活配置
    ◆模块化的单元便于维护(快修&快换)
    ◆图形化的人机交互界面
    ◆高产能300-320WPH,8英寸标准涂胶工艺

TTDW-C-L1200/800系列
◆适用于4、6、8、12英寸硅片、化合物、玻璃、蓝宝石等基片WET处理
◆毛刷Brush清洗、兆声波、高压水,药液、EUV等清洗功能
◆去胶设备(lift off):高压药液去胶,浸泡去胶, 超声(兆声波)波清洗
◆刻蚀设备采用:多液体分离回收结构、刻蚀液精确温控单元
◆模块化的单元便于维护
◆图形化的人机交互界面
◆图形化的人机交互界面