江阴市希瑞电子有限公司

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国产自研光胶/显影

国产自主研发光刻材料
产品包括电子束胶,Lift-Off胶、KrF光刻胶、I-line光刻胶、耐酸碱保护胶、铝基底保护显影液,光刻胶剥离液、电子束光刻胶显影液等。

电子束光刻胶
电子束光刻胶具有分辨率高、灵敏度好、抗刻蚀能力强等优点,适用于多样的电子束光刻工艺。当前可稳定地实现工艺节点在30~100nm及以上的分辨率,曝光剂量50~300µC/cm2。
•高分辨率
•高灵敏性
•刻蚀选择比好
•与基底兼容好

Lift-Off胶
Lift-Off 胶具备高热稳定性,与其他光刻胶涂层兼容,可于TMAH或KOH中显影,易被光刻胶剥离液去除。目前在Lift-Off工艺中可形成几微米内的双影效果,可应用于金属剥离工艺
•内切结构易控制
•内切随温度变化小
•易于去边
•填充性能好
•被剥离液去除
•与基底兼容好

248nm光刻胶
KrF光刻胶适用于多种KrF工艺,Line/Trench KrF光刻胶,分辨率0.2μm,DOF>400nm;
28nm离子注入层KrF胶,分辨率0.14μm,DOF>250nm;通孔KrF胶,分辨率可达0.18μm,
DOF>600nm。
• 高分辨率
• 适合多种结构
• 工艺窗口大
• 形貌陡直